Date:2014-9-3 Hits:4034
美国霍尼韦尔Midas®固定式气体探测器
美国霍尼韦尔Midas®固定式气体探测器(半导体行业)
仪器形态:固定式仪器种类:有毒气体
仪器产地:进口
仪器品牌:霍尼韦尔
仪器特点:
可用于40多种气体,并带有两年延长保质期
带有内置“电子标定”证书的智能传感器夹头
内置1、2级警报以及故障用继电器以太网供电(PoE)通讯和供电平台
键盘接口和远程网络浏览器接口
连接到任意变送器的热裂解器和LonWorks接口可选模块
密码保护菜单管理功能用于维护系统完整性
高亮度LED和直观图标显示、大背光式LCD显示屏
工厂校准的传感器可减少频繁的真实气体测试
带有故障和状态报告的格力的0-22mA模拟输出
ModBus/TCP以太网通讯方式可便捷地连接到控制和报警系统以达到控制连接以及进行服务
可到30米取样距离的强有力的采样泵系统(2年使用寿命)
交互式训练模拟器工具
CE标记的用于全面抗电磁干扰
Reflex®传感器工作状态检查以改善探测器工作安全可靠性
TempraSure®TM温度补偿基数(视情况而定)
浏览传感器历史的状态记录
确认气体泄漏以避免误报警的自有技术
可探测气体:
气体名称 |
化学式 |
范围 |
氨 |
NH3 |
0-100ppm |
氢化砷 |
AsH3 |
0-0.2ppm |
三氯化硼 |
BCl3 |
0-8.0ppm |
三氟化硼 |
BF3 |
0-8.0ppm |
三氟化硼(低浓度的) |
BF3 |
0-2.0ppm |
溴 |
Br2 |
0-0.4ppm |
二氧化碳 |
CO2 |
0-2% vol |
一氧化碳 |
CO |
0-100ppm |
氯 |
Cl2 |
0-2.0ppm |
二氧化氯 |
ClO2 |
0-0.4ppm |
三氟化氯 |
ClF3 |
0-0.4ppm |
硼乙烷 |
B2H6 |
0-0.4ppm |
二氯甲硅烷 |
H2SiCl2 |
0-8.0ppm |
二氟甲烷 |
CH2F2 |
0-120ppm |
乙硅烷 |
Si2H6 |
0-20ppm |
氟 |
F2 |
0-4.0ppm |
锗烷 |
GeH4 |
0-0.8ppm |
六氟丁乙烯 |
C4F6 |
0-40ppm |
氢(%爆炸下限(LEL)) |
H2 |
0-100% LEL |
氢(ppm) |
H2 |
0-1000ppm |
溴化氢 |
HBr |
0-8.0ppm |
氯化氢 |
HCl |
0-8.0ppm |
氰化氢 |
HCN |
0-20ppm |
氟化氢 |
HF |
0-12ppm |
氟化氢(低浓度的) |
HF |
0-2.0ppm |
硫化氢 |
H2S |
0-40ppm |
硫化氢(高浓度的) |
H2S |
0-100ppm |
甲烷(%爆炸下限(LEL)) |
CH4 |
0-100% LEL |
甲基氟 |
CH3F |
0-60ppm |
二氧化氮 |
NO2 |
0-12ppm |
一氧化氮 |
NO |
0-100ppm |
三氟化氮 |
NF3 |
0-40ppm |
八氟环戊烯 |
C5F8 |
0-40ppm |
氧气能力&缺氧 |
O2 |
0-25% vol |
臭氧 |
O3 |
0-0.4ppm |
磷化氢 |
PH3 |
0-1.2ppm |
氢氧化磷 |
POH3 |
0-0.4ppm |
硅烷 |
SiH4 |
0-20ppm |
硅烷(低浓度的) |
SiH4 |
0-2.0ppm |
二氧化硫 |
SO2 |
0-8.0ppm |
六氟化硫 |
SF6 |
0-8000pm |
四氟化硫 |
SF4 |
0-0.4ppm |
正硅酸乙酯 |
TEOS |
0-40ppm |
六氟化钨 |
WF6 |
0-12ppm |
六氟化钨(低浓度的) |
WF6 |
0-2.0ppm |
供应Midas® 氣體偵測器传感器
型号:
Midas Cartridge Detectable Gases
Gas Name Chemical Formula Range Sensor Part Number
Ammonia NH3 9-100 ppm MIDAS-E-NH3
Arsine AsH3 18-200 ppb MIDAS-E-ASH
Boron Trichloride BCl3 0.72-8 ppm MIDAS-E-HCL
Boron Trifluoride BF3 0.72-8 ppm MIDAS-E-HFX
Boron Trifluoride (Low Level) BF3 0.18-2 ppm MIDAS-E-HFL
Bromine Br2 0.036-0.4 ppm MIDAS-E-BR2
Carbon Dioxide CO2 0.15-2.0% MIDAS-E-CO2
Carbon Monoxide CO 9-100 ppm MIDAS-E-COX
Chlorine Cl2 0.18-2 ppm MIDAS-E-HAL
Chlorine Dioxide ClO2 0.036-0.4 ppm MIDAS-E-BR2
Diborane B2
H6 36-400 ppb MIDAS-E-B2H
Dichlorosilane H2
Cl2
Si 0.72-8 ppm MIDAS-E-HCL
Difluoromethane** CH2
F2 16-240 ppm MIDAS-E-XCF
Disilane Si2
H6 1.8-20 ppm MIDAS-E-SHX
Fluorine F2 0.36-4 ppm MIDAS-E-HAL
Germane GeH4 70-800 ppb MIDAS-E-ASH
Hexafluorobutadiene** C4
F6 3-40 ppm MIDAS-E-CFX
Hydrogen (%LEL) H2 6.5-100% LEL MIDAS-E-LEL*
Hydrogen (ppm) H2 90-1000 ppm MIDAS-E-H2X
Hydrogen Bromide HBr 0.72-8 ppm MIDAS-E-HCL
Hydrogen Chloride HCl 0.72-8 ppm MIDAS-E-HCL
Hydrogen Cyanide HCN 1.8-20 ppm MIDAS-E-HCN
Hydrogen Fluoride HF 1.05-12 ppm MIDAS-E-HFX
Hydrogen Fluoride (Low Level) HFL 0.18-2 ppm MIDAS-E-HFL
Hydrogen Sulfide H2
S 3.6-40 ppm MIDAS-E-H2S
Methane (%LEL) CH4 6.5-100% LEL MIDAS-E-LEL*
Methyl Fluoride** CH3
F 8-120 ppm MIDAS-E-XHF
Nitric Oxide NO 9-100 ppm MIDAS-E-NOX
Nitrogen Dioxide NO2 1.05-12 ppm MIDAS-E-NO2
Nitrogen Trifluoride** NF3 3.6-40 ppm MIDAS-E-HFX for 00P, XHF for NP1
Octofluorocyclopentene** C5
F8 3-40 ppm MIDAS-E-XCF
Oxygen O2 0.2-25% v/v MIDAS-E-O2X
Ozone O3 0.065-0.7 ppm MIDAS-E-O3H
Ozone (Low Level) O3 0.036-0.4 ppm MIDAS-E-O3X
Phosphine PH3 110-1200 ppb MIDAS-E-PH3
Silane SiH4 1.8-20 ppm MIDAS-E-SHX
Silane (Low Level) SiH4 0.18-2 ppm MIDAS-E-SHL
Sulfur Dioxide SO2 0.7-8 ppm MIDAS-E-SO2
Tetra Ethyl Ortho Silicate TEOS 3.6-40 ppm MIDAS-E-TEO
Tungsten Hexafluoride WF6 1.05-12 ppm MIDAS-E-HFX
Tungsten Hexafluoride (Low Level) WF6 0.18-2 ppm MIDAS-E-HFL